真空キャップ炉
VCAP炉は誘導溶解プロセスにおいて、冷材からの溶解ステージは大気下（真空も可）、脱ガス等の精錬ステージは真空下で行う設計です。出湯時は大気下あるいは不活性ガス雰囲気下で行います。装置構成はインダクトサームのスティールシェル炉のラインナップに、コンサークの溶湯真空処理プロセスを組み合わせます。
特徴
次のようなプロセスにVCAP炉をご利用いただけます。
- 冷材投入からの大気溶解（オプションで真空下溶解）
- 冷材からの制御雰囲気溶解制御
- 合金の均一化、成分調整
- 脱ガス（脱酸、脱窒）
- 真空下でのトランプエレメントの低減（Pb,Cd,Bi,Znなど）
- 真空及びCO反応を使用した脱酸
- 脱炭－真空下での強力なCO反応により低炭素レベルに適用
- ポーラスプラグよるアルゴンパージ
またVCAP炉にはお客様の生産にとってより重要な次のような利点があります。
- 成分特性を改善－降伏強さ・延性・衝撃強さ・高温応力破断
- 機械特性を改善－高温加工性・溶接性・機械加工性
- 脱炭、脱酸及び残存介在物の低減により清浄性の向上
- 製品品質及び成分のバラツキの低減により不良の削減
仕様
VCAP炉は多様な溶解アプリケーション／サイズ（50kg－20ton）に対応。
アクセサリ
- 真空溶解
- 不活性ガス雰囲気下での出湯
- ポーラスプラグによる不活性ガス（アルゴン）パージ
- 炉体後方傾動
- 真空キャップ自動ハンドリング
- 集塵機能
- 放射温度計
- 真空下でのサンプリング・添加剤投入
- スクラップ材、各種原料の投入
- 油圧プッシュアウト（耐火材押し出し）機構
- 電源装置用高圧変圧器
- ドライスクリュー真空ポンプ
- SCADA監視制御 － コンピュータによるシステム監視とプロセス制御
- O外部冷却システム（オープンorクローズタイプ）
